Лекции.Орг


Поиск:




Категории:

Астрономия
Биология
География
Другие языки
Интернет
Информатика
История
Культура
Литература
Логика
Математика
Медицина
Механика
Охрана труда
Педагогика
Политика
Право
Психология
Религия
Риторика
Социология
Спорт
Строительство
Технология
Транспорт
Физика
Философия
Финансы
Химия
Экология
Экономика
Электроника

 

 

 

 


Источниками переменных электрических и магнитных полей в ПЭВМ




Источниками переменных электрических и магнитных полей в ПЭВМ являются узлы, в которых присутствует высокое переменное напряжение, и узлы, работающие с большими токами. Типичные пространственные распределения переменного магнитного поля и переменного электрического поля вокруг дисплея ПЭВМ показаны на рис. 1.1. и рис. 1.2., соответственно.

По частотному спектру эти электромагнитные поля разделяются на две группы:

· поля, создаваемые блоком сетевого питания и блоком кадровой развертки дисплея (основной энергетический спектр этих полей сосредоточен в диапазоне частот до 1 кГц);

· поля, создаваемые блоком строчной развертки и блоком сетевого питания ПЭВМ (в случае, если он импульсный); основной энергетический спектр этих полей сосредоточен в диапазоне частот от 15 до 100 кГц.

Особо необходимо отметить, что в спектре электромагнитных полей, создаваемых дисплеем, присутствуют составляющие, частоты которых существенно ниже частоты кадровой развертки. Это низкочастотные электромагнитные колебания от единиц герц до нескольких десятков герц, частоты которых близки к частотам биоритмов человеческого организма. В этом принципиальное отличие дисплеев ПЭВМ по их потенциальной экологической опасности в сравнении с обычными бытовыми электроприборами и другими излучающими техническими средствами, которые по роду своего использования могут находиться (как и дисплей ПЭВМ) в близком контакте с человеком.

 


1. 5. Электромагнитные поля, порожденные посторонними (не входящими в состав ПЭВМ) источниками,

Электромагнитные поля, порожденные посторонними (не входящими в состав ПЭВМ) источниками, называют иногда фоновыми полями. Характер этих полей, их пространственное распределение и уровни определяются физическими особенностями источников, положением их по отношению к рабочему месту.

Источником фоновых ЭМП промышленной частоты:

· сеть электропитания - электропроводка, независимо от того скрытая она или открытая,

· любое электрооборудование (щиты питания, розетки, выключатели) и бытовая электрорадиотехника (осветительные и нагревательные приборы, холодильники, кондиционеры, телевизоры и т. п.). При этом фон конкретного помещения формируется электрооборудованием всего здания и внешними источниками (трансформаторные подстанции, ЛЭП и др.),

· массивные не заземленные металлические предметы (решетки, стеллажи и т.п.).

Напряженность фонового поля промышленной частоты в обычных помещениях (офисах, рабочих кабинетах и т.п.), как правило, в десятки раз меньше установленных ПДУ, поэтому прямое влияние фонового поля на пользователя несущественно.

Однако дисплей, как рабочий инструмент, обладает той особенностью, что магнитная составляющая фона промышленной частоты напряженностью более 1 мкТл обуславливает пространственную и временную нестабильности изображения на экране дисплея. У казанные нестабильности, воспринимаемые пользователем как дрожание и мерцания изображения, оказывают вредное воздействие на зрительный анализатор пользователя и через него - на общее состояние последнего. Схема опосредствованного вредного влияния магнитного поля промышленной частоты на пользователя иллюстрируется на рис. 1.3.

Наличие механизма опосредствованного вредного влияния переменных магнитных полей на человека должно учитываться при организации рабочих мест с ПЭВМ.





Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2016-11-18; Мы поможем в написании ваших работ!; просмотров: 1356 | Нарушение авторских прав


Поиск на сайте:

Лучшие изречения:

Логика может привести Вас от пункта А к пункту Б, а воображение — куда угодно © Альберт Эйнштейн
==> читать все изречения...

2223 - | 2152 -


© 2015-2024 lektsii.org - Контакты - Последнее добавление

Ген: 0.008 с.