1.
1.1. :
) - (), d=15-20 ( 0.5 2 ;
) () ;
) () .
1.2. -4, . -4 :
1.
2.
3.
4. .
.
:
) , . , . ;
) 6-2 , ;
) . .
, , , " .
. --18 --10. -4 4 , 2 20-25 / 2 0.1 1.0 /.
:
1. -4 / /
2.
3.
4. , ()
5.
--18 . :
)
)
) .
, . . 7.0 ., 18 . . , , , :
|
|
= *103 / V* t /3, (1)
: P=2 - 1 - ,
Pi .- / /
V - ///
t - / ./
. , . . , , . - . .
: , , - . . . 5 3. 50 .
, .
, 5 . , 5 .
- : .
, , . , .
: - - - - .
1. -4
2. ) 220
) , ( )
) .
) 25 /.
) ( )
3. - :
) , , . ) .
: , , . - .
4. , , v-
5. , -4
|
|
6. 5-10 ,
7. / -4, 4 , . -4
8. , , . .
9. 1, , 1
1
/ V | t | ||||
1 | 2 | /3 | /3 | ||
: 1.
1. .
2. , :
) , ;
) ;
) , , .
3. , , 5 .
4. : 5 : 15 . 2.
% .
5. .
6. 1 , , 5 .
2
5 % | 5-10 % | 10-15% | 5% | |||||
53 13 |
:
ר :
1. .
2. 1 , - .
3. .
4. 2 , .
1. - ?
2. ?
3. ?
4. ?
5. ? ?
7. ?
8. , -4?
9. . ?
10. - ?
1. : / .. , .. , .. , .. ; . . . -. , 1995. 238 .;
2. . ( ): / .. , .. , .. . 2- ., . . .: . ., 2002. 319 .: .;
|
|
3. . /.. , .. , .. .; . . .. . 2- ., . . .: . ., 1999. 448 .: .;
4. : / . . .. . 3- ., . . .: ʰ, 2001. 678 .;
5. : / .. , .. , .. .; . . .. . .: , 1985. 448 ., .
1
-
/3 | ||
SiO2 | 10.0 | |
, , SiO2 | 6.0 | |
, , , , , 10 % SiO2 | 5.0 | |
, , , 10/ Si02 | 4.0 | |
, | 3.0 | |
, ., 10 70% Si02 | 2.0 | |
., 70% | 1.0 | |
, , | 0.5 | |
, | 0.3 | |
, , | 0.1 | |
0.01 |