Лекции.Орг


Поиск:




Категории:

Астрономия
Биология
География
Другие языки
Интернет
Информатика
История
Культура
Литература
Логика
Математика
Медицина
Механика
Охрана труда
Педагогика
Политика
Право
Психология
Религия
Риторика
Социология
Спорт
Строительство
Технология
Транспорт
Физика
Философия
Финансы
Химия
Экология
Экономика
Электроника

 

 

 

 


Электронно-дырочный переход (р-n-переход)




Основным элементом структуры большинства типов полупроводниковых прибо­ров является электрический переход — переходный слой в полу­проводниковом материале между двумя областями с различными типами электропроводности или разными значениями удельной электропроводимости.

Электрический переход между двумя областями полупроводни­ка, одна из которых имеет электропроводность p- типа, а другая — n- типа, называют электронно-дырочным переходом или р-п- переходом. Создать p-n- переход механическим соединением двух полупро­водников с различным типом электропроводности невозможно, электронно-дырочные переходы получают путем введения в полу­проводник донорной и акцепторной примесей таким образом, чтобы одна часть полупроводника обладала электронной, а другая — дырочной электропроводимостью (рисунок 5.3).

Основные носители заряда в полупроводнике n- типа — элек­троны (обозначенные знаком минус), а в полупроводнике p- типа — дырки (обозначенные знаком плюс). Ионизированные атомы донорной и акцепторной примеси обозначены соответственно знака­ми плюс и минус в кружочках. Неосновные носители в электрон­ном и дырочном полупроводниках не обозначены, так как их кон­центрация очень мала в сравнении с концентрацией основных но­сителей.

Условно будем считать, что п- и р- полупроводники приведены в идеальное соприкосновение. Так как в n- полупроводнике много электронов, а в p- полупроводнике много дырок, между полупро­водниками начнется интенсивный обмен носителями заряда. За счет разности концентраций электроны из полупроводника n -типа диффундируют в полупроводник p- типа, оставляя в приконтактной области полупроводника n- типа некомпенсированный положи­тельный заряд ионов донорной примеси.

Дырки, в свою очередь, диффундируют в полупроводник n- типа, в результате чего в приконтактном слое полупроводника р -типа воз­никнет отрицательный заряд ионов акцепторной примеси. Таким образом, область раздела полупроводников n- и р -типа окажется обедненной свободными носителями заряда и, несмотря на малую ширину (δ = 10-6 − 10-8 м), будет обладать большим сопротивлением, во много раз превышающим сопротивление остальной части полу­проводников. Наличие отрицательного и положительного объем­ного зарядов приводит к образованию электрического поля, кото­рое препятствует дальнейшему диффузионному потоку носителей зарядов. В равновесное состояние система приходит при условии равенства потоков свободных носителей заряда, вызванных гради­ентом их концентраций и электрическим полем объемного заря­да. Теперь рассмотрим, что произойдет, если к p-n- переходу приложить внешнее напряжение. Пусть к p- области присоединен положительный полюс питания, а к n- области — отрицатель­ный. Такое внешнее поле будет направлено навстречу электриче­скому полю, обусловленному объемными зарядами. При этом основные носители заряда в р- и n- полупроводниках, имеющие наибольшую энергию, получают возможность проникать через обедненный слой в области, где они оказываются неосновными но­сителями заряда и рекомбинируют. Такое направленное движение носителей заряда является электрическим током, и можно сказать, что электронно-дырочный переход при такой полярности внеш­него напряжения будет «открыт» и через него потечет прямой ток.

При смене полярности внешнего напряжения электрическое по­ле объемных зарядов и внешнее поле будут совпадать по направле­нию. В результате действия суммарного электрического поля ос­новные носители будут двигаться от перехода и пересечь переход смогут только неосновные носители. Так как количество неоснов­ных носителей во много раз меньше основных, то и ток, ими обу­словленный, будет мал по сравнению с тем, который получится при прямом включении. При данном включении электронно-дырочный переход «заперт» и через него может протекать только малый обратный ток неосновных носителей.

 

 

Рис. 5.3. Распределение носителей заряда в областях полупроводника с p- и n- типами проводимости: а — отдельные области; б — области в одном кристалле при отсутствии внешнего электрического поля; в — внешнее поле направлено навстречу диффузному; г — внешнее поле совпадает по направлению с диффузионным.

 

На рисунке 5.4 показана зависимость между тoком, текущим через p-n- переход, и внешним напряжением, которая называется вольт-амперной характеристикой.

 

 

Рисунок 5.4 Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода

По фазовому состоянию и компонентному составу исходной фазы методы получения монокристаллов делятся на три группы:

■ выращивание из расплава;

■ выращивание из раствора;

■ выращивание из газовой фазы.

Существует несколько групп методов выращивания монокристаллов из газовой фазы:

■ молекулярных пучков (напыление, сублимация);

■ химических реакций;

■ химического переноса.

 





Поделиться с друзьями:


Дата добавления: 2017-02-24; Мы поможем в написании ваших работ!; просмотров: 456 | Нарушение авторских прав


Поиск на сайте:

Лучшие изречения:

Начинайте делать все, что вы можете сделать – и даже то, о чем можете хотя бы мечтать. В смелости гений, сила и магия. © Иоганн Вольфганг Гете
==> читать все изречения...

4377 - | 4205 -


© 2015-2026 lektsii.org - Контакты - Последнее добавление

Ген: 0.008 с.